二者的区别在于,前者以追求高性能为导向,后者以追求长期一致性为导向。理论上讲,原刻光栅总是比复制光栅性能高一些,但随着光栅复制技术的完善,光栅大多数性能指标差异性已经很小。例如horiba jobin yvon用于激光压缩的原刻光栅衍射效率指标高达90%,复制光栅相对于原刻光栅仅仅差4%,价格却相差数倍之多。因此,如果是要量产仪器,采用复制光栅,既具有极佳的性能一致性,又具有极高的性价比,无疑是明智之选。即使是做科研用途,选择优质的复制光栅在很多应用中也完全胜任。只在第二个问题中讨论的是否需要承受高损伤阈值和极致追求衍射效率的情况下,再考虑原刻光栅。另外贴一份光栅技术发展简史,做个小科普。 1968: first holographic grating 1969: first patent of aberration corrected grating 1975: vuv toroidal grating 1983: ion-etching technology for holographic grating 1986: large, gold coated, pulse compression gratings 1995: variable groove density grating for synchrotron and vuv spectrometers 2001: large, high efficiency, transm**sion gratings for high energy lasers 2003: mld gratings for laser pulse compression 2005: variable groove depth grating for synchrotron and vuv spectrometers 2009: patent for metal dielectric gratings for high energy laser 20210311