目前世界上最大的光刻机制造商是荷兰asml;1984年asml从飞利浦独立出来,专门致力于研发光刻技术,得益于近乎完美的德国机械工艺以及世界顶级光学厂商德国蔡司镜头,再加上美国提供的光源,asml迅速发展,到如今占到了全球光刻机总销售收入的78%;
而随着asml的壮大,高端光刻机市场基本被垄断,intel的晶圆工厂生产成本也日益增加,所以intel大力扶持日本尼康以平衡asml,而asml独步全球的工艺水平和稳定性能最终击败尼康成为高端光刻机的王者,尼康则开始面向低端领域;如今全球最大的晶圆代工厂台积电是asml最大的股东,三星,intel也占有asml的股份,垄断地位已经形成。
光刻机(mask aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 mask alignment system.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。
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