刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路。
扩展资料:
光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动
1.手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的x轴,y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;
2.半自动:指的是对准可以通过电动轴根据ccd的进行定位调谐;
3.自动: 指的是 从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
参考资料:百科-光刻机,百科-刻蚀
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