我国的光刻机发展到什么地步了?

潇洒走一生 2024-06-16 01:38:57
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首先,我国很早就开始了光刻机的研制,在上世纪70年代,清华大学与中科院合作进行光刻机的研发,在1985年就研制成功了一台g线分步投影光刻机,这比国外同类产品仅仅晚了6年。2002年我国成立了上海微电子装备有限公司(smee),其研发团队主要来自中科院45所,目前为止,这也是我国仅有的一家光刻机研发单位。从今年发展来看,smee虽取得了很大成绩,但整体技术水平还是落后于西方发达**。光刻机的研制技术难点主要是解决精密度问题,光刻的原理就像在米粒大小的面积上,雕刻纳米级大小的文字,其难度可想而知,所以这需要持续的研发和技术攻关。此外,我国光刻机的研发还面临资金和人才的调整。研发光刻机这种高精尖设备投入大、投资回报时间长,民营企业出于发展目的,很少会主动投入光刻机的研发,所以这需要**进行投资和组织,从国外发展来看,英特尔、台积电、三星为推进光刻机的研发,都是持续投入巨资,比如三星以38亿欧元购买asml23%的股份支持其euv光刻机的研发,可以说是不计成本,也由此奠定了他们在光刻机领域的地位。与国外相比,我国缺少光刻机相关配套产业,而且由于西方**的技术封锁,几乎不可能从国外获得技术支持,所以,我国光刻机的发展只能来源于自主研发,而光刻机研发人员的培养难度较大、培养周期长、人才流失严重,这些都大大制约了我国光刻机的发展。其实总体来看,发展光刻机取决于**的决心,过去,我们可以很容易买到国外芯片,而且自主研发投入大、风险高,这造成了我们**很多人产生了“造不如买”的观点,但随着中美贸易战的加剧,美国开始对**进行技术防范,比如“中芯**”,对华为的各种制裁,这些**终于使国内企业醒悟过来,不发展光刻机,**永远把自身的命脉放在别人手里,**工业将永远徘徊低端产业,所以,发展光刻机已经刻不容缓。 20210311
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