ito靶材在

Rain 2024-05-25 08:00:44
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ito靶材在目前的市场中使用广泛,而生产它的方法有多种。在以前,它的生产技术并不是很好,为了满足人们的需求才有了常压烧结法,最初的生产方法就是真空热压法,使用这种... 20210311
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    ito靶是氧化铟和**粉末定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成温气氛烧结(1600度,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。ito薄膜是利用ito靶材作为原材料,通过磁控溅射把ito靶气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上。ito薄膜具有导电性和透光性,厚度一般30纳米--200纳米。
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    ito靶材就是氧化铟和氧化末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加型,再高氛烧结(1600度,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。ito薄膜是利用ito靶材作为原材料,通过磁控溅射把ito靶气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上。ito薄膜具有导电性和透光性,厚度一般30纳米--200纳米。
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