为啥**做不出光刻机?

我就是我 2024-11-15 18:35:50
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其实**在很早以前就已经研发出了光刻机,起步不比欧美晚。**光刻机的研发历史1965年,国内科学院就研制出65型接触式光刻机。在当时,荷兰asml公司还没成立,直到1970年荷兰asml公司才初具雏形,也就是说我们在这个领域比荷兰整整早了5年。1980年,清华大学研制出**分布式投影光刻机,精度高达3微米,已经接近国际主流水平,仅次于美国,但偏偏就在这个时候,**的光刻机技术遭遇“滑铁卢”,国人放弃了光刻机的研究,倡导对外进口,导致**光刻机20年的研究成果付诸东流。上海微电子是国内唯一光刻机制造商目前,国内唯一能够制造光刻机的厂商是上海微电子(smee)成立于2002年。当下,国产光刻机的难题在于无法制造精密的零配件,不同于荷兰的asml公司,它的高端光刻机零配件来自美国、德国、日本等发达**,而目前我国还未能掌握这些技术,更买不到。另一方面,上海微电子可以生产制造90nm的光刻机,而asml可以生产7nm甚至5nm的euv光刻机,差距不是一般的大,如果想要继续生产5nm的芯片就必须要euv光刻机才行,这也是为什么美国一直阻挠我国进口euv光刻机的根本原因。不过,据国内媒体报道的消息,上海微电子预计将在2021年交付首台28nm的光刻机,差距正在逐渐缩小,虽然还是有差距,但是上海微电子正在全力追赶,这种顶尖机器的研发需要长期的技术累积,才能有所突破,绝不是一蹴而就的。所以,我们不用过于担心,不用妄自菲薄。如果在20年前,美国制裁**半导体行业,那确实是很让人担心。但现在是2020年,**已经是全球最大的半导体市场,有巨大的市场需求,还有大量的资金,人才也不少,我们现在最缺的是时间。相信在不久的将来,我国可以制造出全球顶尖的光刻机,打破国外技术垄断! 20210311
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