上海微电子装备的光刻机能达到什么水平？ 
2024-12-22 08:56:08
提问者: 未知
光刻机十年突破知道世界上只有几家公司能生产光刻机，包括比利时和日本，上海的这一家能到达什么技术水平…半导体设备领域国内哪项与国外差距最小？光刻机，刻蚀机，显影机，镀膜机，注入机？
2024-12-22 15:08:15
提问者: 未知
上海另有一家耗材公司新阳，虽然上市但是在高端工艺上的技术水平始终没有突破。电镀液只能用于要求比较简单的工艺。 赞同...中微半导体的氧化层蚀刻，tsv蚀刻设备有竞争力。...如果台积电没有最先进的光刻机机会怎么样？
2024-12-22 22:22:07
提问者: 未知
回到题主的问题，台积电得不到最先进的光刻机会怎样。你要明白，当下最先进的光刻机euv，本身就是全球芯片...中芯与asml没有渊源也不是股东也没有专利同盟，这才是根本原因!美国能否以一己之力独立制造出当今最先进的5纳米极紫光刻机？
2024-12-22 11:27:21
提问者: 未知
美国能否以一己之力独立制造出当今最先进的5纳米极紫光刻机？实事求是地讲，美国不但有这个能力，而且具有这种技术。为什么会如此肯定？其实原因很简单，那就是荷兰asml（阿斯麦）极紫外:-一己...半导体设备领域国内哪项与国外差距最小？光刻机，刻蚀机，显影机，镀膜机，注入机？
2024-12-22 06:32:11
提问者: 未知
做的可以实战的是北方微电子的pvd，可以用于28nm的hard mask工艺，并且可以量产，和amat相比...上海另有一家耗材公司新阳，虽然上市但是在高端工艺上的技术水平始终没有突破。...我国的光刻机开发得怎么样了？
2024-12-22 14:11:54
提问者: 未知
北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，国科精密提供曝光光学系统，华卓精科提供双工作台，浙江启尔...装备制造的相关器件已在**航天科技集团公司第八研究院...按照我们目前**的技术，造一台全球先进的光刻机需要多少年？
2024-12-22 08:50:19
提问者: 未知
看了回答，基本都是瞎掰。**和asml差距并不是想象中大。第一光源，哈工大的光源其实已经差不多了。本来**的激光光源就是全球领先的，哈工大 dpp euv和阿斯迈尔原理相同，已经实验室成功，在...分辨率4k和1080p有什么区别？
2024-12-22 18:17:12
提问者: 未知
4k分辨率其横向和纵向像素点分别是1080p的两倍，因而分辨率是1080p的4倍。1.分辨率即显示在屏幕上的像素点阵大小。例如1024x768表示屏幕上从左到右一行有1024个像素点，从...pcb光刻胶和半导体光刻胶的区别
2024-12-22 15:08:10
提问者: 未知
光刻胶是一种有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。 1、光刻胶的作用： a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中； b、在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。2、光刻胶的物理特性参数： a、分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（cd，critical dimension...正型光刻胶和负型光刻胶的区别
2024-12-22 07:35:21
提问者: 未知
最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液; 负胶经曝光显影后不溶与显影液同样一块mask， 正胶和负胶曝光显影后图形是相反的特别声明：本网为公益网站，人人都可发布，所有内容为会员自行上传发布"，本站不承担任何法律责任，如内容有该作者著作权或违规内容，请联系我们清空删除。