光刻机和蚀刻机有什么区别?

小圆宝 2024-12-23 11:12:43
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最近中兴**作为**,引发了国人关于芯片讨论,其中不免涉及到了芯片制造业两大至关重要的技术,蚀刻机和光刻机,作为一个业余爱好者,我为大家分享一下我知道的东西。什么是光刻机光刻机作为制造芯片的核心装备之一,因为用途的不同,分为生产芯片的光刻机,用于封装的光刻机,还有led领域的投影光刻机,目前主要讨论的是用于生产芯片的光刻机,这也是芯片领域,我国最薄弱的环节。先了解一下光刻中必须要用的东西—光刻胶,简单的来说这种胶状物,只能被光腐蚀,而不能被化学物质腐蚀,制造芯片时讲光刻胶涂在金属表面,然后用光把不需要的地方腐蚀掉,制作出自己需要的图形(电路结构之类的),接下来就该蚀刻机上场了。什么是蚀刻机蚀刻分为两类,一类是干刻,一类是湿刻(目前主流),湿刻就是特定的化学溶液与上个部分光刻机制作后的薄膜发生反应,发生反应过后剩下的东西,就是需要的东西了,这个过程有液体接触,所以叫湿刻。干刻更加高级,目前并没有大规模应用,它是通过等离子电浆去除未覆盖的薄膜。光刻机 asml一枝独秀以前光刻机领域还有佳能尼康制衡asml,不过随着技术差距越来越多,目前高端光刻机市场被asml垄断,7nm级别光刻机17年的产量只有12台,一台1.2亿美元,还要提前21个月预订,**就算排队,也不知道哪年买得到,背地里还有有些**作怪,目前国产光刻机还处于90nm阶段,任重道远。五大蚀刻机厂商 中微是其一目前能生产7nm级别蚀刻机的有应用材料,科林研发,东京威力科创,日立先端,中微半导体五家公司,中微是唯一一家**企业,并且已经开始向台积电供货,中微也代表着**顶尖的半导体技术。**半导体起步晚,需要走的路还很长,不过**人最不缺的就是毅力,只有坚持不懈方能厚积薄发。 20210311
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